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HC等离子体源

MY-HCF100

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MY-HCF100

型号：MY-HCF100

MY-HCF100等离子体源兼具CCP等离子体源均匀性和ICP等离子体源高密度。该等离子体源全金属设计，无氧污染，带电离子成份少，在非氧薄膜半导体领域具有低氧污染，效率高等优点。广泛应用于ALD系统中。
MY-HCF50

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MY-HCF50

型号：MY-HCF50

MY-HCF50等离子体源兼具CCP等离子体源均匀性和ICP等离子体源高密度。该等离子体源全金属设计，无氧污染，带电离子成份少，在非氧薄膜半导体领域具有低氧污染，效率高等优点，广泛应用于ALD系统中。

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