产品概述 
MY-RF01 射频离子源采用紧凑型/模块化设计，该系列 RF 离子源可以大范围移动，广泛适用于离子束抛光（IBF）、离子束修型（IBT）、表面清洗及反应性离子刻蚀（RIE）等工艺。设备兼容多种活性气体，可提供高稳定性的离子束流，为高标准的精密加工提供可靠支持。

特性与优势 

• 束斑尺寸：0.1-1mm。

• 稳定性：输出束流长期稳定可靠，120 小时波动不超过 1‰，支撑长周期精密工艺。

• 低污染：全金属化设计，ICP 无极放电，彻底摒弃传统设计污染来源，实现超低污染。

• 兼容性：广泛兼容惰性气体、氧气及各类反应性气体，根据工艺需求灵活匹配定制化栅极材料。

• 灵活启动：支持一键式自动启停与精细化手动调节，适应不同研发与生产场景。

• 电子中和：高性能镀膜灯丝中和器，高效中和离子束流，彻底解决绝缘材料工艺过程中的表面电荷积累。